最近，中国科学院固体物理研究所内耗与液损实验室核材料研究团队基于界面工程设计，采用大塑性变形方法，成功生产出高界面、高强度、低热稳定性的Cu/Ta纳米多层膜块体。相关研究成果发表于《材料学报》。传统的纳米结构材料在高温和强电离辐射等极端条件下结构和性能不稳定。

因此，制备高强度和低稳定性的纳米结构材料仍然是一个难题。有研究指出，由几乎不混溶的金属制成的纳米多层膜具有高强度、低热稳定性和优异的抗电离辐射性能，但其制备方法主要依靠自下而上的物理或化学方法，由于制备效率低，不能满足工业应用的需要。

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